据韩媒报道，三星计划削减其在高NA EUV技术方面的采购规模，并且与ASML联合创立的欧洲投影光刻机研究中心项目也遭遇了诸多困难。此前，三星计划在未来10年内采购三款Twinscan EXE:5200、EXE:5400和EXE:5600系列后续机型Twinscan EXE:5000 High-NA EUV光刻机。
然而，最新消息显示，三星已经通知ASML，不仅将减少Twinscan EXE:5000系列的采购数量，而且只会采购EXE:5200。这一决定是在副董事长Jun Young-hyun被任命为设备解决方案部门新负责人，并重新审查正在进行中的项目和投资后做出的。
一位熟悉情况的人士表示：“在购买位于京畿道华城的土地建设研究设施的过程中以及设计和审批过程中，相关进程已经完全停止。”他进一步解释称，“随着三星公司决定减少设备引进，相关进程已经完全停止。”关于该项目是否会继续进行以及是否会被取消将在未来讨论中做出决定。
同时，该项目对于提升三星公司在半导体领域的技术水平至关重要，但是由于三星公司此次决策调整可能会导致这一项目的进展受到影响。
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