https://news.zol.com.cn/929/9298922.html
news.zol.com.cn
true
中关村在线
https://news.zol.com.cn/929/9298922.html
report
705
俄罗斯已经公布了自主开发EUV光刻机的路线图,其目标是制造出比ASML更便宜、更易制造的光刻机。该项目由俄罗斯科学院微结构物理研究所的Nikolay Chkhalo领导。俄罗斯的光刻机将采用11.2nm的激光光源,与ASML标准的13.5nm不同,这种波长的改变将提高分辨率20%,简化设计并...