荷兰政府近日出台新规，即自9月1日起，对部分先进半导体设备的出口将受到限制，需要相关企业提前申请出口许可证才能进行。对此，全球知名半导体设备生产商ASML表示，将接受政府的规定并按需申请，再次出口其高级的浸润式DUV光刻系统（即TWINSCAN NXT:2000i及后续浸润式系统）时，需向荷兰政府提前进行申请。同时，该公司也明确表示，其EUV系统的销售自始就受到限制。 根据ASML自身官网所展示，该企业目前的浸润式DUV光刻机产品主要包括TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i三款。早在3月，ASML便预计2000i和2050i会受到荷兰政府的出口限制。然而，对比其最新的回应，TWINSCAN NXT:1980Di并没有被列入限制之内。 据了解，该款光刻机虽然理论上可以达到7nm生产工艺，但步骤更为复杂，成本较高，且可能会对产出良率产生影响。因此它主要用于生产14nm及以上工艺的芯片，而很少用于生产14nm以下的工艺，原因在于后者由于良率低，生产成本高，缺乏竞争力。
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