近日，九峰山实验室与华中科技大学组成联合研究团队，共同突破了一项具有自主知识产权的“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。该技术通过巧妙的化学结构设计，构建出“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”，得到了优良的光刻图像形貌和线边缘粗糙度。其性能优于大多数商用光刻胶，并且满足半导体量产制造中对吞吐量和生产效率的需求。
这项研究成果有望为解决光刻制造共性难题提供明确方向，同时也为EUVO（欧洲视频光学）领域正在进行的技术储备做出贡献。相关成果以“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”为题，在2024年2月15日发表于国际顶级期刊《化学工程杂志》上。
这一项目获得了国家自然科学基金和973计划的共同资助，主要作者包括华中科技大学光电国家研究中心朱明强教授、湖北九峰山实验室工艺中心柳俊教授和向诗力博士。在九峰山实验室工艺平台的支持下，上述具有自主知识产权的光刻胶体系已经完成初步工艺验证，并完成了各项技术指标的检测优化，实现了从技术开发到成果转化的全链条打通。
这一突破性的创新对于推动半导体制造技术和产业发展具有重要意义。通过提高光刻胶的质量和性能，可以提升集成电路电性、成品率及可靠性。同时，这一成果也将促进国内企业在技术创新方面的努力，加强自身核心竞争力。
论文链接：https://doi.org/10.1016/j.cej.2024.148810
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