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    曝国产芯片自主制造神器:无需光刻机直接蚀刻

      [  中关村在线 原创  ]   作者:清风与鹿

    中国科技公司上海创消新技术发展有限公司近日申请了一项名为“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”的专利,该发明无需使用EUV光刻机或DUV光刻机,也不需要光刻过程,直接蚀刻即可制造出5纳米芯片。这一专利的公布引起了网友的广泛关注。 据了解,上海创消新技术发展有限公司于2019年3月13日正式成立,注册资本为50万元人民币,所属地区为上海市青浦区。公司法定代表人为刘明革,他同时也是上海敏革化学科技有限公司的股东和监事,持有上海创消新技术发展有限公司85%的股份,另外15%的股份由“刘佳慧”持有。上海创消新技术发展有限公司的注册资本包括机械技术、电子技术、化工技术、建筑技术、生物技术领域内的技术开发、技术转让、技术服务和技术咨询。值得注意的是,公司的经营范围并未涉及芯片相关的内容,如芯片设计和芯片制造。

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    news.zol.com.cn true https://news.zol.com.cn/832/8328744.html report 676 中国科技公司上海创消新技术发展有限公司近日申请了一项名为“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”的专利,该发明无需使用EUV光刻机或DUV光刻机,也不需要光刻过程,直接蚀刻即可制造出5纳米芯片。这一专利的公布引起了网友的广泛关注。 据了解,上海创消新技术发展有限公司于...
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