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    英特尔4工艺良率高于预期信心很高 采用4nm工艺

      [  中关村在线 原创  ]   作者:一便士的月亮

    在马来西亚槟城的一次集体采访中,英特尔逻辑开发副总裁William Grimm表示,英特尔4制程的良率高于预期,他对此表示出了极高的信心。英特尔4是英特尔工艺中首次应用极紫外光(EUV)的工艺。 根据IC Knowledge提供的逆向工程数据,英特尔4工艺的性能优于台积电5nm,接近3nm工艺。然而,Grimm坚持认为,将英特尔4与其他代工厂的现有节点进行比较是困难的,因此他们只是参考了外部基准测试并执行了自己的PPA。 Grimm表示:“通过EUV,我们可以控制工艺复杂性,我们成功地获得了比预期更高的产量。”他还介绍说,英特尔4节点是一个特别注重能源效率的工艺,“如果说英特尔7工艺是专注于性能最大化的工艺,那么英特尔4则专注于提高能效,它更适合笔记本电脑等应用。” 此外,Grimm还表示,EUV产能已经有足够的保障来满足市场需求,并且未来几年的计划,比如英特尔3,已经确定了。

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    news.zol.com.cn true https://news.zol.com.cn/830/8301465.html report 722 在马来西亚槟城的一次集体采访中,英特尔逻辑开发副总裁William Grimm表示,英特尔4制程的良率高于预期,他对此表示出了极高的信心。英特尔4是英特尔工艺中首次应用极紫外光(EUV)的工艺。 根据IC Knowledge提供的逆向工程数据,英特尔4工艺的性能优于台积电5nm,接近...
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