三星调整先进制程发展策略，将原定1.4纳米工艺的商用时间延后，集中资源提升2纳米工艺的产能与良率。公司已制定聚焦高端制造的精品战略，优先推进2纳米GAA（全环绕栅极）技术落地，并设定良率目标为70%。虽然该指标仍低于行业领先水平约二至三成，但已超出管理层初期预期。
按照当前规划，2纳米GAA工艺将于今年下半年进入量产阶段，相关产线已在平泽工厂及其他厂区部署完成。基于对未来市场需求的判断，三星已在2纳米节点上布局多个技术版本，包括SF2、SF2P及SF2P+等。其中，SF2P+为第三代2纳米工艺，计划在两年内实现商业化应用。
考虑到此前在先进制程上的表现未能完全赢得市场信心，三星正通过争取行业订单重建客户信任，并以更具竞争力的代工报价吸引合作。据透露，该公司已承接一款2纳米移动芯片的代工任务，该芯片预计用于高端移动平台，产品是否能在明年如期推出，目前尚未明确。
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