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    国产DUV光刻研发成功 3nm制程可以量产了

      [  中关村在线 原创  ]   作者:Y
    news.zol.com.cn true https://news.zol.com.cn/964/9648651.html report 1476 中国科学院近日宣布在激光技术领域取得重大突破,成功研发出固态深紫外(DUV)激光源。这款创新性的激光源能够发射出与当前主流DUV曝光技术波长相同的193纳米相干光,为半导体工艺提升至3纳米节点提供了有力支持。据了解,目前市场上主流的DUV光刻机,如ASML、佳能和尼康...
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    龙芯3A5000

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