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中关村在线
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中国科学院近日宣布在激光技术领域取得重大突破,成功研发出固态深紫外(DUV)激光源。这款创新性的激光源能够发射出与当前主流DUV曝光技术波长相同的193纳米相干光,为半导体工艺提升至3纳米节点提供了有力支持。据了解,目前市场上主流的DUV光刻机,如ASML、佳能和尼康...