近日，苹果公司取得了一项关于屏下Face ID的重要专利，这一突破为iPhone实现真正的全面屏设计扫清了又一大障碍。目前，iPhone距离完美全面屏仅剩屏下摄像和屏下Face ID两大技术门槛。
据专利文件显示，苹果此次的解决方案主要针对屏下Face ID所需的红外光透光率问题。为了提高透光效果，苹果创新性地提出移除OLED面板上相同颜色的相邻子像素，这一设计使得红外光能够顺利穿透屏幕。值得注意的是，移除的子像素并不会影响用户的视觉体验，因为苹果通过借用相邻子像素并进行颜色混合，确保了屏幕整体显示效果的一致性和高清晰度。
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