据最新媒体报道，苹果公司最近获得了一项关于屏下Face ID的专利，这一突破性进展有望解决长期困扰iPhone实现真全面屏形态的最大难点。该专利成功攻克了屏下摄像头的技术难题，为未来的iPhone设计开辟了新的可能性。
Face ID作为苹果手机的标志性安全特性，通过深感摄像头投射并分析大量的点来捕获准确的人脸数据。然而，由于红外摄像头、点阵投影器等关键组件在当前技术条件下无法被完全隐藏到屏幕下方，苹果一直采用妥协的药丸屏方案来解决这一问题。
最新的屏下Face ID专利显示，苹果通过创新的方法提高了红外光的透光率。虽然红外光可以穿过显示屏，但其透射率一直是个难题，强行将其置于面板下方会导致人脸识别过程变慢，且安全可靠性降低。苹果的解决方案是删除一些子像素，让红外光能够顺利穿过OLED面板，实现屏下人脸识别。
具体来说，显示器由一个个像素组成，每个像素又包含红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。苹果的专利方案是移除相同颜色的相邻子像素，以此让红外光成功穿透屏幕。这些缺失的子像素并不会被用户肉眼察觉，因为苹果会利用相邻的子像素，通过颜色混合来弥补缺失的部分，确保整体显示效果的一致性。
据业内人士推测，这套创新的屏下Face ID方案最快有望在2026年的iPhone 18系列上得到应用。届时，iPhone 18系列将告别现有的药丸屏设计，以单挖孔屏的形态呈现，为用户带来更加沉浸式的全面屏体验。
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