佳能押注“纳米压印”技术，目标今年或明年出货
据英国金融时报报道，负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明近日接受采访称，采用纳米压印技术的佳能光刻设备 FPA-1200NZ2C 将会在今年或明年正式上市销售。
御手洗富士夫表示，这款新型光刻设备将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条新的途径。这项技术被称为纳米压印光刻（NIL），是指将带有半导体电路图案的掩模压印在晶圆上，在一个印记之后，就可以形成复杂的2D或者3D电路图案。因此只需要不断改进掩模技术，甚至可以生产出2nm级别的芯片。
佳能与日本印刷综合企业大日本印刷株式会社（Dai Nippon Printing Co.）以及存储芯片制造商铠侠控股（Kioxia Holdings Corp.）合作研究纳米压印技术已有近十年的时间。与通过反射光工作的极紫外光刻技术不同，佳能研究的纳米压印技术是将电路图案直接印在晶圆上，从而制造出据称几何形状与最先进节点相当的芯片。
这种新设备有望让芯片制造商降低对芯片代工厂的依赖，同时也让台积电和三星电子等芯片代工厂更有可能批量生产芯片。据悉，这种机器所需功率只有 EUV 同类产品的十分之一。
另外，《金融时报》还援引御手洗富士夫的话说：“NIL 产品的价格比 ASML 的 EUV 光刻机‘少一位数’”。这表明，佳能研发的新型光刻设备在价格上具有竞争力。
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