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Intel为新制程加速,未来将使用SOI技术

类型:原创 作者:【中关村在线 briza】 日期:2003-10-30 09:18:48




    今天,Intel宣布将为转向0.09微米制造制程加速。Intel目前正在美国的俄勒冈晶圆工厂和爱尔栏的晶圆工厂加速部署0.09微米制程,其中加入Strained Silicon技术,来生产0.09微米制程的处理器。Intel在俄勒冈的晶圆工厂已经开始量产0.09微米制程的Pentium4和Centrino处理器,并且良率也在不断提高。据Intel说,采用Strained Silicon技术后,能使现有速度提高1/10。而且不排除未来会采用SOI技术。明年年末,Intel会有更多的工厂转向0.09微米制造制程。







资料来源:中关村在线
文章字数:228
 
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