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    台积电国内工厂爆发:南京厂将继续扩建

      [  中关村在线 编译  ]   作者:中关村在线

    据中国台湾媒体报道,半导体巨头台积电南京厂目前月产能已达成原定2万片目标,而之前依计划扩增南京厂产能,今年月产能已由1.5万片扩增至2万片,制程技术以12nm及16nm为主。台积电决定启动南京厂第2期扩建,并以28nm制程为主。对于这个消息,台积电表示,目前南京厂尚无进一步扩产具体计划。

    台积电国内工厂爆发:南京厂将继续扩建
    台积电国内工厂爆发:南京厂将继续扩建

    台积电财报显示,台积电南京厂去年即转亏为盈,全年获利新台币12.89亿元(约合人民币 2.97 亿元)。随着产能规模扩大,今年前3季获利扩增至新台币91.29亿元(约合人民币21亿元)。

    此前还有媒体报道称,为了保持领先,台积电已经下单订购了至少13台ASML的Twinscan NXE EUV光刻机,将会在2021年全年交付,不过具体的交付和安装时间表尚不清楚。同时,明年台积电实际需求的数量可能是高达16到17台EUV光刻机。

    目前,台积电使用ASML的Twinscan NXE EUV光刻机在其N7+以及N5节点上制造芯片,但在未来几个季度,该公司将增加N6(实际上将在2020年第四季度或2021年第一季度进入HVM)以及同样具有EUV层的N5P工艺。台积电对EUV工具的需求正在增加是因为其技术越来越复杂,更多地方需要使用极紫外光刻工具处理。台积电的N7+使用EUV来处理最多4层,以减少制造高度复杂的电路时多图案技术的使用。

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    news.zol.com.cn true http://news.zol.com.cn/757/7571980.html report 1145 据中国台湾媒体报道,半导体巨头台积电南京厂目前月产能已达成原定2万片目标,而之前依计划扩增南京厂产能,今年月产能已由1.5万片扩增至2万片,制程技术以12nm及16nm为主。台积电决定启动南京厂第2期扩建,并以28nm制程为主。对于这个消息,台积电表示,目前南京厂尚无...
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